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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

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等離子清潔機(jī)對(duì)薄膜進(jìn)行表面處理,提高薄膜附著力

       等離子清潔機(jī)對(duì)薄膜進(jìn)行表面處理,提高薄膜附著力,近年來(lái)發(fā)現(xiàn)薄膜具有較優(yōu)良的駐極化性能,鑒于它在硅集成電路工藝中的重要地位,人們希望薄膜能成為制備微型集成聲傳感器的(敏)感薄膜材料。有(機(jī))聚合物駐極體材料具有良好的電荷儲(chǔ)存穩(wěn)定性,目前市場(chǎng)上銷售的駐極體傳感器絕大部分全是有機(jī)聚合物駐極體薄膜傳感器。這類傳感器使用時(shí)限長(zhǎng)、膜型、價(jià)格低廉,但全是體積較大的分立器件,無(wú)法滿足駐極體聲傳感器小型化、集成化的要求。

等離子清潔機(jī)

       隨著環(huán)境濕度的升高,薄膜的駐極化電荷容易丟失,薄膜具有良好的親水性,薄膜表面電導(dǎo)率隨環(huán)境濕度的升高而急劇增加,導(dǎo)致儲(chǔ)存在薄膜及近表面上的駐極化電荷容易衰減,這是制約其發(fā)展的主要因素。借助等離子清洗機(jī)可改變材料的表面特性,如提高表面的抗腐蝕性、抗(氧)化性、抗磨損特性等。
現(xiàn)在有了一種新的快捷、方便的物理處理方法,即利用等離子清潔機(jī)對(duì)薄膜作適當(dāng)?shù)奶幚?,使薄膜在恒壓電暈極化后表現(xiàn)出良好的電荷存儲(chǔ)穩(wěn)定性。用與集成電路工藝兼容的簡(jiǎn)單物理方法,使熱生長(zhǎng)二氧化硅表面具有疏水性,或在其近表面引人電荷陷阱,達(dá)到有效提高駐極化電荷穩(wěn)定性的目的,為集成微音器的制備提供工藝基礎(chǔ)。
       等離子清潔機(jī)處理薄膜的工藝被廣泛用于半導(dǎo)體、電子、醫(yī)療、機(jī)械,印刷、汽車制造等行業(yè),可處理的對(duì)象包括光學(xué)薄膜、復(fù)合薄膜、超導(dǎo)薄膜、聚酯薄膜、尼龍薄膜、塑料薄膜、金屬薄膜等等,主要目的是清洗有(機(jī))物(活)化和粗化表面,改善表面張力,提高附著力。
       誠(chéng)峰智造利用等離子清潔機(jī)處理技術(shù),為手機(jī)觸摸屏、醫(yī)藥制品、動(dòng)力鋰電池、FPC、石墨烯、聲學(xué)器件等行業(yè)客戶提供了相關(guān)的等離子表面處理工藝解決方案。處理過(guò)的樣品包括:PET離型膜、PTFE膜、PI覆膜、PEEK振膜、硅膠薄膜、動(dòng)力電池電芯鋁膜、石墨烯薄膜等。

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