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CRF plasma 等離子清洗機

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電漿清洗機中的等離子體可以進行物理和化學反應

       電漿清洗機的清潔分類,作為技術類的文章我們請到了CRF電漿清洗機工程師盧工老師,給網友們分享清潔的分類,小編現在總結下來分享到網站上,希望能幫助大家對電漿清洗機的處理分類有一定了解!等離子體與固體表層的化學反應可分為物理反應和化學反應。物理反應機制是活性顆粒轟擊待清潔表層,使污物脫離表層,從而被真空泵吸走;化學反應機制是各種活性顆粒和污物化學反應形成揮發性物質,然后由真空泵吸走揮發性物質。

電漿清洗機

(1)物理反應
以物理反應為中心的等離子體清潔,也稱為濺射浸蝕(SPE)或離子銑削(IM),其特點是自身不發生化學反應,清潔表層不留金屬氧化物,能夠維持被清潔物的化學純凈性,浸蝕作用各向異性的缺陷是對表層造成很大的損傷,形成很大的熱效應
(2)化學反應
化學等離子體清潔方式具有清潔速度快、選擇性好、消除有機物等特點,缺陷是會在表層形成金屬氧化物。與物理反應相比,化學反應的缺陷難以克服。而且兩種化學反應機制對表層微觀形貌的影響差異很大。
物理化學作用能使表層在分子水平上更粗糙,進而改變表層的力。此外1種等離子體清潔在離子體表面反應機理中起著重要作用,即化學反應離子體浸蝕和化學反應離子束浸蝕,兩種清潔相輔相成,離子轟擊破壞被清潔的表層,削弱化學鍵,形成原子狀態,易于吸收化學反應劑,離子碰撞使清潔物加熱。
      電漿清洗機的潔凈分級,在物理反應和化學反應等方面各有優劣,但它們的應用也各有不同,但一般的物理清洗都是用AR電漿清洗機體清洗,氬自身便是稀有氣體,等離子體的AR便是AR。化學清洗一般采用氧氣等離子體清潔,讓物體表層發生化學反應生成形成CO2、CO和水等易揮發物,進而消除表層的污物。以達到清潔的目的!


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