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plasma設備在高分子材料上的應用

       低溫plasma設備產生的離子注入是靠汽體電弧放電產生的電離汽體,產生低溫汽體離子注入方式 許多,常見方式 有直接電弧放電、射頻電弧放電、徽波電弧放電等。低溫plasma設備中的離子注入改善材料表面性能的機理可粗略認為:在低溫離子注入反應室內,低壓工作汽體中的電子在電場加速器作用下,在電子接觸及派生離子、原子的接觸使汽體電離,關鍵在于產生低溫離子注入。 

plasma設備

       PTFE高頻徽波雙層pcb電路板的孔化生產制造中,較大 的關鍵點是化學沉銅前的活化前處置,也是重要的這一步。pcb電路板制造業,基本依托多種多樣的化學處置溶液,對需要進行表面鍍金屬的部位進行活化改性處置,然后才能用于低溫電路板生產制造設備離子注入技術。但低溫離子注入改性是一一干法工藝,不需要進行廢液處置,而且作用時間短,效率高,改性只在表面層進行,不影響基體的固有性質。plasma設備技術在高分子材料上的應用有如下優點:

①屬于干式工藝;節能無污染,滿足節能環保的需要;
②時間短,效率高;
③對所處置的材料無嚴格要求,具有普通適應性;
④可處置形狀較復雜的材料,材科表面處理均勻性好;
⑤反應環境溫度低;
⑥對材料表面的作用僅涉及幾到幾百納米,材科表面性能改善的同時,基體性能不受影響。
       這6點就是plasma設備在高分子材料上的應用。

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