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CRF plasma 等離子清洗機

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等離子處理在提高硬盤品質領域方面有成功應用

       經濟的發展,人們的生活水平不斷提高,對消費品的質量要求也越來越高。各種技術問題的不斷提出,新材料的不斷涌現,越來越多的科研機構已認識到等離子技術的重要性。硬盤塑料件科學的發展,技術的不斷進步,電腦硬盤的各項性能也不斷提高,其容量越來越大,碟片數量隨之增多,轉速也高達7200轉/分,這對硬盤結構的要求也越來越高,硬盤內部部件之間連接效(果)直接影響硬盤的穩定性、工作可靠性、使用壽命,這些因素直接關系到數據的安(全)性。 

等離子

       服務器上的硬盤數據致關重要,而且隨著硬盤的存儲量越來越大,穩定性越來越難以達到要求,因此提高服務器硬盤的穩定性成為業界的不懈追求。而硬盤的穩定性依賴于硬盤支架與盤面的壽命和穩定性,其中硬盤支架上的HC和陰離子數目超標將直接導致硬盤在運行的過程中容易造成類似干電池的腐蝕,繼而丟失數據甚致硬盤報廢,而用傳統的方法很難有效降(低)其數量,因此,HC和相關陰離子很難降(低)到標準要求成了硬盤領域發展的一個瓶頸,屬于業界公認的難題。目前為了(降)低HC和相關陰離子數目多采用化學清洗方式,良品率低,效(果)不理想。誠峰智造等離子清洗機通過長達半年的工藝探索,與客戶深入合作,通過修改清洗配方,更改反應腔體結構材質、提高腔內清洗均勻性等等,終于可靠將HC和相關陰離子數目降到標準要求以內,該項技術已經在國(際)硬盤支架市場占有量第壹的生產基地得以推廣應用,大大提高了成品的良品率,縮減了生產成本,更關鍵的是提高了硬盤的穩定性和壽命,可靠性及抗碰撞性也有明(顯)的改善。給客戶帶來了很大的經濟效益和發展契機,甚致可以說,等離子處理在提高硬盤品質領域的成功應用成為硬盤發展史上一個新的里程碑。
       等離子清洗機(plasma cleaner)也叫等離子清潔機,或者等離子表面處理儀,是一種全新的高科技技術,利用等離子體來達到常規清洗方法無法達到的成效。等離子體是物質的一種狀態,也叫做物質的第四態,并不屬于常見的固液氣三態。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態。等離子體的“活性”組分包括:離子、電子、原子、活性基團、激發態的核素(亞穩態)、光子等。等離子清潔機就是通過利用這些活性組分的性質來處理樣品表面,從而實現清潔、涂覆等目的。

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