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CRF plasma 等離子清洗機

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真空等離子清洗機通過兩個電極形成電磁場

      真空等離子清洗機通過兩個電極形成電磁場,用真空泵實現一定的真空度,隨著氣體越來越稀薄,分子間距及分子或自由運動距離也越來越長,受磁場作用,發生碰撞而形成等離子體,同時會發生輝光,等離子體在電磁場內空間運動,并轟擊被處理物體表面,達到去除表面油污以及表面氧化物,灰化表面有(機)物,以及其它化學物質,從而達到表面處理、清洗和刻蝕效(果),經過等離子處理工藝可以實現有選擇的表面改性。

真空等離子清洗機

      等離子體和固體、液體或氣體一樣,是物質的一種狀態,也叫做物質的第四態。從通常的能量排布:氣體>液體>固體的角度來說,等離子的能量比氣體更高,能表現出一般氣體所不具有的特性,所以也被稱為物質的第四態。當氣體電離生成電子正離子一般在段時間內發生結合,回到中性分子狀態,這個過程產生的電子、離子的一部分能量以電磁波等不同形式消耗,在分子離解時常生成自由基,生成的電子結合中性原子,分子形成負離子。因此,整個等離子體是電子正負離子激發態原子,原子以及自由基的混合狀態。因為各種化學反應都是在高激發態下進行的,與經典的化學反應完(全)不同。這樣使等離子體的原子或分子的本性通常都發生改變,即使是較穩定的惰性氣體也會變得具有很強的化學活潑性。
      真空等離子清洗機由真空發生系統、電氣控制系統、等離子發生器、真空腔休、機械等幾個部分組成,可以根據客戶的特殊要求定制符合客戶需要的真空系統,真空室。容易采用數控技術,自動化程度高;具有高精度的控制裝置,時間控制的精度很高;正確的等離子體清洗不會在表面產生損傷層,表面質量得到保證;由于是在真空中進行,不污染環境,保證清洗表面不被二次污染。

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