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CRF plasma 等離子清洗機

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選用了低溫等離子發生器,用以退鍍表層處理,可更好清理缺陷涂層

選用了低溫等離子發生器,用以退鍍表層處理,可更好清理缺陷涂層:
        CRF低溫等離子發生器的退鍍是借助等離子輝光反應來確保高密度、低溫等離子體得到有效的表面活化成效。清洗表面有機物,樹脂,灰塵,油污,雜質等,增加表面能量。借助改性使材料表面粗糙,蝕刻后的表面凸起增加,表面積增加。介紹了含氧極性基,如羥基、羧基等活性分子。

低溫等離子發生器


        選用了低溫等離子發生器,用以退鍍表層處理,可更好清理缺陷涂層。用以玻璃蓋板、顯示觸摸屏、保護片、光學材料、電子電路等工業用鍍膜次品的返修處理。對于AF、AS、AG、AR等涂裝工藝,選用等離子預處理裝置(一般選用低溫常壓旋轉式噴涂等),對基底表面進行精細的預處理清洗、蝕刻和活化,可以得到非常薄的高張力涂層表面,有助于噴涂藥液結合力強,厚薄均勻。對于AF、AS、AG、AR等涂裝工藝,選用等離子預處理裝置(一般選用低溫常壓旋轉式噴涂等),對基底表面進行精細的預處理清洗、蝕刻和活化,可以得到非常薄的高張力涂層表面,有助于噴涂藥液結合力強,厚薄均勻。
        退鍍用低溫等離子發生器是安裝有旋轉噴頭等離子體表面處理機的設備,借助滑臺、反復運動、清洗和退鍍需要在流水線上退鍍的設備。根據產能需求,客戶可定做不同規格的流水線,單機配1臺,2臺,4臺等離子體等各種數量。AF----Anti-fingerprint中文為防指紋,AF等離子鍍膜機又名AF噴涂機、AF等離子噴涂機、防指紋等。Anti-Smudge中文意為防污,AS等離子體鍍膜機又稱AS等離子體鍍膜機,防油低溫等離子發生器,噴涂機等。AG----anti-glare,中文叫做防炫光,也叫AG電漿噴涂機、防炫電漿噴涂機、防炫光等。中文為反射增強,AR等離子涂膜機又稱AR噴涂機。反射等離子涂層機、反射等離子噴涂機等。

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